金融界2025年8月5日消息，国家知识产权局信息显示，武汉云岭光电股份有限公司申请一项名为“芯片结构及其制作方法”的专利，公开号CN120432443A，申请日期为2025年03月光电器件 。
专利摘要显示，本发明涉及光通信技术领域，提供了一种芯片结构，包括用于保护芯片本体需要保护区域的空腔结构，所述空腔结构呈框型的基底以及设于所述基底上的盖板，所述基底和所述盖板一体成型且材质相同光电器件 。还提供一种芯片结构的制作方法，包括如下步骤：在晶圆表面，结合光刻工艺，干法与湿法相结合制作所述脊波导；在所述脊波导上制作电注入窗口；在晶圆表面制作金属电极；在所述脊波导的有源区域上方制作空腔结构；制作所述空腔结构时，所述空腔结构的基底和盖板一体成型且材质相同。
天眼查资料显示，武汉云岭光电股份有限公司，成立于2018年，位于武汉市，是一家以从事零售业为主的企业光电器件 。企业注册资本30824.62万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉云岭光电股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目154次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息69条，此外企业还拥有行政许可12个。
来源：金融界