金融界2025年8月9日消息，国家知识产权局信息显示，光驰科技（上海）有限公司申请一项名为“一种Ag薄膜层光学常数的测量结构及测量方法”的专利，公开号CN120443107A，申请日期为2024年02月光学薄膜 。
专利摘要显示，本发明涉及一种Ag薄膜层光学常数的测量结构及测量方法，所述测量结构包括依次层叠设置的Ag薄膜层、金属缓冲层以及第一氧化物介质层；所述Ag薄膜层的厚度≥6nm；所述测量方法为采用椭偏仪对测量结构进行测量光学薄膜 。本发明提供的测量结构可以避免Ag薄膜层被氧化，配合后续的测量方法可以相对精准地获取Ag薄膜层的光学常数，以便更精确地进行含Ag薄膜层的光学薄膜设计及制造，扩展了Ag薄膜的应用厚度下限。
天眼查资料显示，光驰科技（上海）有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业光学薄膜 。企业注册资本80000万日元。通过天眼查大数据分析，光驰科技（上海）有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目38次，财产线索方面有商标信息19条，专利信息328条，此外企业还拥有行政许可47个。
来源：金融界