金融界2025年7月17日消息，国家知识产权局信息显示，爱思开迈克沃有限公司申请一项名为“聚酰胺基薄膜、其制造方法及包含其的覆盖窗和显示设备”的专利，公开号CN120310251A，申请日期为2021年09月光学薄膜 。
专利摘要显示，多个实施方式涉及一种聚酰胺基薄膜及其制造方法，以及包括该聚酰胺基薄膜的覆盖窗和显示设备，其中聚酰胺基薄膜具有优异的光学特性，例如透射率、雾度和黄度，以及优异的机械特性，例如模量和厚度均匀性光学薄膜 。聚酰胺基薄膜含有聚酰胺基聚合物，并包括一总XRD峰，该总XRD峰通过将在XRD图上2θ值为（含）10°至（不含）20°的部分具有最大值的第一XRD峰和在2θ值为20°至25°的部分具有最大值的第二XRD峰相加得到，其中第一XRD峰的半峰宽为6°或更小。
来源：金融界